8-inch TaC-coated loftfloatbak foar SiC-epitaxy

De 8-inch TaC Coated Air Float Tray is in kritysk ûnderdiel yn multi-wafer SiC-epitaxyprosessen, ûntworpen om silisiumkarbidwafers te stypjen en te transportearjen tidens epitaksiale groei. Yn 'e easken omjouwing fan SiC-epitaxyovens moatte trays ekstreem hege temperatueren, korrosive gassen en lange ferwurkingssyklusen wjerstean. Troch CVD TaC-coating te kombinearjen mei grafytsubstraten mei hege suverens, soarget dizze loftfloattray foar superieure duorsumens, termyske stabiliteit en prosesuniformiteit - wêrtroch it in essinsjeel ûnderdiel is yn 'e produksje fan SiC-wafers mei hege folume.

Ⅰ. Materiaalkomposysje en fysike eigenskippen

De TaC Coated Air Float Tray yntegreart avansearre materialen om sawol meganyske robuustheid as gemyske wjerstân te berikken dy't nedich binne yn healgeleider-epitaxy:

● Substraatmateriaal: Heech-suvere grafytsusceptor (ultra-leech ûnreinheidsgehalte, hege termyske geleidingsfermogen)

●Oerflakbeskermingslaach: CVD TaC-coating (tantaalkarbid) oanbrocht fia gemyske dampôfsetting foar ekstreme slijtage- en korrosjebestriding

Wichtige fysike eigenskippen:

TaC-coatingsuverens: ≥ 99.99%

Hurdens (HK): ~2000 HK

Smeltpunt: ~3,880 °C

Termyske geliedingsfermogen: Uitstekend, soarget foar unifoarme waferferwaarming

Ferset tsjin halogeenkorrosje: Uitstekende stabiliteit yn chloor- en fluorrike epitaksiale omjouwings

Basisgrafytdichtheid: ~1.85–1.95 g/cm³

Wurktemperatuer: Oant 2,000 °C yn kontroleare omjouwings

Dizze eigenskippen soargje derfoar dat de 8-inch TaC-coated tray lange epitaksiale runs kin wjerstean, wylst dieltsjegeneraasje en waferfersmoarging minimalisearre wurde.

Ⅱ. Wichtige funksjes yn SiC-epitaxy

Us 8-inch TaC-coated tray spilet in wichtige rol yn it epitaksyproses fan healgeleiders SiC troch ferskate krityske funksjes út te fieren:

● Uniforme temperatuerferdieling: De hege termyske geliedingsfermogen fan it grafytsubstraat en de TaC-coating soarget foar poerbêste waarmte-oerdracht en in unifoarme temperatuer oer alle SiC-wafers. Dizze unifoarmiteit is krúsjaal foar it berikken fan in konsekwinte epitaksiale laachdikte en morfology.

● Beskerming tsjin etsen en fersmoarging: De gemysk inerte TaC-coating foarkomt effektyf dat it grafytsubstraat reagearret mei foargongergassen, wat etsen kin feroarsaakje en dieltsjesfersmoarging kin generearje. Dizze beskerming is essensjeel foar it behâld fan in skjinne prosesomjouwing en it garandearjen fan in hege waferopbringst.

● Ferlingde libbensdoer: De duorsume TaC-coating ferlingt de libbensdoer fan 'e susceptor signifikant troch it grafyt te beskermjen tsjin slijtage en gemyske degradaasje, wêrtroch't de frekwinsje fan ferfanging ferminderet en de eksploitaasjekosten ferlege wurde.

● Loftfloatûntwerp: It unike ûntwerp fan 'e loftfloat minimalisearret fysyk kontakt tusken de susceptor en de keamer, wêrtroch wriuwing ferminderet en potinsjele dieltsjegeneraasje foarkomt dy't de wafers fersmoargje kinne. Dit ûntwerp is wêrom't it ek wol bekend is as in TaC Coated Air Float Tray.

Foardielen fan Semixlab

By Semixlab geane wy ​​fierder as standertprodukten om maatwurkoplossingen te leverjen dy't foldogge oan 'e spesifike behoeften fan jo epitaksyproses.

● Oanpassing: Wy biede wiidweidige oanpassingsopsjes, ynklusyf ferskate foarmen, maten en coatingdikten, om perfekt te passen by jo reaktorspesifikaasjes en proseseasken.

● Ekspert Technysk Advys: Us team fan betûfte yngenieurs biedt yngeande technyske stipe en advys, en helpt jo jo proses te optimalisearjen en ús produkten naadloos te yntegrearjen.

● Strenge testen foar ferstjoering: Elke TaC-coated plaat ûndergiet ekstreme kondysjetests foardat er ferstjoerd wurdt. Wy ferifiearje de prestaasjes en yntegriteit ûnder hege temperatueren en yn gemysk agressive omjouwings om te soargjen dat er foldocht oan jo easken foar operaasjes.