CVD Silicon Carbide (SiC) Coating

CVD SiC-coating is yn prinsipe in silisiumkarbidlaach dy't op grafyt ôfset wurdt, en it wurdt in soad brûkt yn epitaksy-ark dêr't sawol temperatuer as skjinens wichtich binne. Yn echte produksjelinen sille jo it faak sjen yn systemen fan AIXTRON, ASM/LPE, Veeco, en ek guon AMAT-relatearre platfoarms. Wat it nuttich makket, is net allinich de temperatuerresistinsje, mar de algemiene stabiliteit tidens lange runs. Under typyske epitaksy-omstannichheden - wetterstof, ammoniak, of sels chloorgassen - bliuwt de coating relatyf stabyl en beskermet it grafyt derûnder. Dat helpt it termyske fjild konsekwinter te hâlden en ferminderet de kâns dat dieltsjes ferskine tidens groei.

Meastentiids wurdt de coating oanbrocht op ûnderdielen lykas susceptors, waferdragers, grafytringen of healmoannekomponinten. Dizze binne allegear direkt belutsen by it ferwaarmjen of posysjonearjen fan wafers, dus elke lytse ynstabiliteit kin ynfloed hawwe op de opbringst. Dêrom wurde coated ûnderdielen faak behannele as konsumpsjeartikelen dy't noch betrouber moatte wêze oer meardere syklusen, foaral yn produksje fan 4 oant 12 inch.